第422章 EUV难度更大 (第2/2页)

“难点很多，光源、物镜、工作台等等都是非常关键的环节点。”何融明说：

“老板，要不这样，让在座的企业负责人介绍一下？术业有专攻，他们更专业，也更容易解释清楚。”

“行。”常乐点头。

于是，启尔电机负责人先发言：

“常总，何总，我先说说吧。”

“好。”

“首先感谢常总、何总这些年，对启尔电机的关心和支持，没有SmEE的资金支持和帮助，启尔电机不可能走到上市前夜。”

“什么时候上市？”常乐问。

“12月。”

“那我们之前买的那些股票要值钱了。”

“哈哈……”

短暂笑过，启尔电机负责人开始正式介绍情况：

“启尔电机主要为duvArFi光刻提供浸没系统。”

“通过浸没系统和光的折线效应，实现了193纳米到134纳米的等效波长，Arf光刻推进到Arfi光刻才成为可能。”

浸没系统，就是将镜片与硅片之间的空间，浸入特殊液体中。

由于液体折射率大于1，能够使193纳米波长光源缩短至134纳米，从而实现更高分辨率。

也顺带，将光刻工艺节点从45纳米推进到14纳米、10纳米。

“但是……”该负责人话锋一转：

“同样的方法，157纳米波光光源叠加浸入技术后，无法降低波长。”

“所以，进入EUV阶段，就需要更为复杂的技术和手段来实现极紫外光源。”

启尔电机负责人介绍完，科益虹源企业负责人接着说：

“对，进入EUV研发阶段，目前的主流方法，是用准分子激光器照射锡球靶材，获取极紫外光源。”

“要做到这一步，需要时间，难度不小。”

难度有多大？

非常大。

要产生13.5纳米波长的极紫外光源，需要用高功率准分子激发器，以每秒5万次的频率，不断击中一个正在高速运动中的小锡球。

让小锡球温度上升至50万度，变成等离子体，从而产生极紫外光。

这个小锡球大小为三千万之一米，运动速度为321公里\/小时。

“目前，能够提供这种激光器的公司，全球只有一家，德国的通快公司。”

“但是通快公司也不能独立提供，需要北美cymer公司合作和技术授权。”

“此外，还需要立陶宛一家公司提供关键器材。这家立陶宛公司背后又是北美技术授权……”

“所以，在技术方面，我们得不到任何借鉴和支持，还是需要想办法绕开专利限制，慢慢探索。”

光源只是关键困难之一。

国望光学负责人接着说：

“我们负责物镜系统研发，但是，同样需要时间来探索和积累。”

Euv物镜需要理论上的绝对平滑、平整。

镜片起伏只允许一个原子的误差。

这是理论物理的极限。

通俗讲，就是把镜片放大到鲁省大小。

一个病毒落在镜片上，就像拔地而起的高山。

国望光学负责人说完，华卓精科负责人自信说道：

“我们公司负责工作台，正在集中攻坚，应该在不久的将来，可以达成既定目标要求。”

工作台是干什么的？

相当于刻刀。

在指甲盖大小的硅片上，刻画出几百亿个晶体管。

这需要极高精度。

当然，全球也没有任何一个国家能够独立制造。

需要日、韩、北美、德国等诸多国家的专利支持和技术协同。